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磁控溅射 磁控溅射卷绕镀膜机
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产品简介:磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用*的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。
技术参数 | 卷膜条件 |
镀膜材料:PET 和无纺布 适用制膜:软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。 基材厚度:125~300μm 有效镀膜宽幅:≤800 mm 大卷绕直径:Φ400 mm 卷绕芯轴内径:4 寸 基材卷绕速度:1~2 m/min 基材卷绕张力:30 ~ 200 N 张力系统:交流伺服 溅镀方式:单面 | |
真空条件 | |
极限真空(空载、洁净):8×10-4Pa 恢复真空时间(空载、清洁):105Pa ~ 5×10-3Pa≤60 min 系统真空漏率:1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控溅射阴极数量:3 个 膜均匀性偏差:≤±10% |