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VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪
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沈阳科晶一路走过的历程，是为我国材料研究事业全力贡献的历程，是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程，是与国外同行不断缩小差距的历程，是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘，但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持，相信在不久的将来，沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌，沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。
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详细信息
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
产品名称 | VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪 |
产品型号 | VTC-600-2HD-1000 |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要参数 | 1、输入电源：220V/50Hz |
产品规格 | 主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm |
