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VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
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沈阳科晶为了更好地服务客户，专门设立了开放式专业实验室，配备了优秀的专业技术人员。在这里，不仅可以提供亲身的产品体验环境，而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来，制作的样品达上千件，接待来访客参观户百余次，其中包括多次外国友人的来访。在此，沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来，并希望您能提出宝贵的意见与建议。
沈阳科晶一路走过的历程，是为我国材料研究事业全力贡献的历程，是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程，是与国外同行不断缩小差距的历程，是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘，但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持，相信在不久的将来，沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌，沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。
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详细信息
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD双靶磁控溅射仪配备有一个靶枪，可选择强磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜，强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、可选一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
产品名称 | VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪 |
产品型号 | VTC-600-1HD |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要参数 | 1、电源电压：220V 50Hz |
产品规格 | 1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm |
标准配件 | 1、直流电源控制系统1套（可选） |
可选配件 | 1、金、铟、银、白金等各种靶材，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。 |
