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P 系列 粉末原子层沉积系统

型号
P 系列
参数
价格区间:面议 应用领域:化工,能源,电子,制药
复纳科学仪器(上海)有限公司

高级会员10年 

生产厂家

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台式扫描电镜,SEM / TEM 样品制备,ALD 原子层沉积,TEM 原位样品杆,X 射线显微 CT

复纳科学仪器(上海)有限公司(简称“复纳科技”)于 2012 年在上海成立,聚焦荷兰飞纳台式扫描电镜在中国市场的推广和应用,涵盖领域包括材料、锂电新能源、半导体、生命科学和法医检测等。

截止目前,复纳科技服务超过 2000 家飞纳电镜客户和 100 家相关产品客户,包括:清华大学、北京大学、复旦大学、上海交通大学、华南理工大学和中科院系统等高校科研单位;巴斯夫、宁德时代、微软、默克和出入境检验局等企事业单位。

2017 年开始,复纳科技陆续与 7 家行业品牌建立了长期合作,致力于为中国高校、研究所、企业和政府用户提供先进可靠、高效智能的科学分析仪器、优质专业的服务和基于核心技术的解决方案。目前已引进先进的:DENSsolutions TEM原位样品杆,飞纳台式扫描电镜,NEOSCAN台式高分辨显微 CT,ForgeNano原子层沉积、 Technoorg Linda SEM/TEM样品制备和VSParticle 纳米气溶胶沉积等设备。

十年以来,复纳科技赋能中国科研创新、工业升级,人工智能检测的使命也越来越清晰。

 

 

 

 

详细信息

P 系列粉末原子层沉积系统

forge-p系列.jpeg

粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该方法包覆均匀性较差,性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点,采用流化床技术实现粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末实现充分的接触。P 系列粉末原子层沉积系统是 Forge Nano 针对工业包覆研发的粉末 ALD 负载系统,可实现 kg 级粉末批量包覆,是工业生产前理想的研发工具。


产品规格原子层沉积多少钱


1. 前驱体通道:2-8

2. 腔室容量:0-600ml

3. 反应器温度:450℃

4. 最高工艺温度:200℃

5. 振动流化床反应器

6. 模块:流化辅助,质谱,臭氧发生器,等离子体发生器


产品特点


P 系列是 Forge Nano 专为粉末 ALD 开发的研发级工具,可轻松实现 kg 的粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。

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流化辅助

粉末在长时间存放或流化不充分时容易出现团聚,导致无法形成理想的流化态。因此利用流化辅助模块,高剪切气流以及振动反应器的设计可冲散团聚颗粒,确保分散效果。


分区加热

所有前驱体源均可独立加热,保证运输条件,这对于部分低蒸汽压的前驱体以及敏感的基底材料非常重要。P 系列也拥有*的阀门控制系统,可以实现多通道前驱体输运。


在线监测

P 系列配置了气体在线分析系统,对 ALD 工艺的改善有较大帮助,使用者可通过气体成分判断反应的完成度。


forge-P2.jpeg

应用

锂电池:锂电正极或负极材料的包覆可有效提升其放电性能及使用寿命。常见的 NCM 与磷酸铁锂,在表面包覆 Al2O3 等氧化物薄膜后,在经过多次放电后,仍可保持较高的能量密度。



forge-P3.jpeg


3D 打印:3D 打印粉末存在腐蚀及表面氧化的问题,会影响最终器件的性能。通过表面涂层改性,可有效延缓氧化及腐蚀。传统的包覆方式是在器件表面进行 ALD 沉积,但对于 3D 打印粉末,直接对原材料粉末改性无疑是更有效的手段。


forge-P4.jpeg


催化:催化反应大多数是发生在材料表面的界面反应,因此对于催化剂材料进行表面构筑改性是有效的性能提升手段。利用 ALD 可以直接在粉末,纤维材料表面生长高活性纳米涂层,另一种方法是利用模板法结合 ALD 在表面构筑特定结构,暴露活性位点。此外,也可以在特定的颗粒表面进行表面包覆,防止催化剂烧结团聚。


forge-P5.jpeg





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产品参数

价格区间 面议
应用领域 化工,能源,电子,制药
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