在电子通信行业蓬勃发展的大背景下，集成电路产业迎来了以光刻技术为核心技术的爆炸式需求。利用紫外光源对紫外敏感的

光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。实现光刻工

艺的设备一般称之为光刻机，或为曝光机。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价

光刻设备品质的关键指标。

光刻机作为生产大规模集成电路的核心设备，有接触式光刻机、接近式光刻机、投影式光刻机等类型。而这些类型的常规光刻

机需要定制价格高昂的光学掩模板，同时，任何设计上的变动都需要掩模板重新制造也使得它有着灵活性差的劣势。激光直写

设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但逐行扫描的模式使得曝光效率较低。出于同时追求高精度、高效率、强灵

活性、低损耗，在投影式光刻机基础上，无掩模板紫外光刻机应运而生。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在

紫外曝光方面获得了长足的进展。

无掩膜版紫外光刻机 激光直写 灰度光刻 多光源TTT-07-UV Litho-ACA无掩膜版紫外光刻机的特征尺寸为1 µm（光刻镜头B），高性能无铁芯直线驱动电机保证了套刻精度和高达6英寸画幅的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩模板设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。