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URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻机
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- URE-2000/17/25/35/34AL
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北京中科复华科技有限公司是一家致力于为半导体领域和微纳米科学领域提供综合性解决方案，为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供的半导体设备仪器和微纳米科学仪器，拥有一支经验丰富、技术过硬的技术团队。能够出色地完成售前、售中、售后的服务。 未来公司将不断和引进在微纳米科学领域中起重要作用的新仪器和新产品，同时也与全国各所的大学、学院和科研院所建立了良好的合作关系，致力于把具有市场前景的科研成果推向市场。愿与中、外同仁广泛合作， 为中国的教育与科研事业在广范围、高层次上提供服务。
详细信息
1． 技术参数
l UV光源：进口LED模块
l 曝光中心波长：365nm
l 光源平行性：2º
l ★曝光分辨率：0.8um-1um
l 曝光能量密度：>35mW/cm²可调
l 照度不均匀性：≤2.5%(∮150mm范围)
l ★曝光面积：160mm*160mm
l 光源寿命：2万小时
l 曝光设定：定时
l 曝光头工作模式：曝光位对准位自动切换（前后移动）
l 套准精度：±0.8-1 um
l 可执行曝光模式：真空接触、硬接触、压力接触、接近式，
l 间隙设定方式：数字设定曝光间隙，自动分离和消除间隙
l 样片、掩模版相对移动范围：X: ±5mm， Y: ±5mm， θ=±6º
l 掩模版找平方式：球气浮自动找平
l 可支持掩模版尺寸： 3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″ 各一件
l 标配承片台 ： 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
l 标准配件可兼容样片厚度：0.1-6mm，其他尺寸可定制
l 可设计工作厚度：50mm
l ★双目双视场对准显微镜或者光学镜头+CCD+显示器：可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，光学合像，光学倍数400倍，光学+电子放大800倍，物镜三对：4倍、10倍、20倍，目镜三对：10倍、16倍、20倍
l 双物镜可调距离范围：30mm-120mm
l ★显微扫描范围：Y:±40mm（电动，数字设定）
设备尺寸：≤700mm
