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DISC-ICP-601/801/1201/ 感应耦合等离子体刻蚀机（ICP）
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- DISC-ICP-601/801/1201/
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北京中科复华科技有限公司是一家致力于为半导体领域和微纳米科学领域提供综合性解决方案，为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供的半导体设备仪器和微纳米科学仪器，拥有一支经验丰富、技术过硬的技术团队。能够出色地完成售前、售中、售后的服务。 未来公司将不断和引进在微纳米科学领域中起重要作用的新仪器和新产品，同时也与全国各所的大学、学院和科研院所建立了良好的合作关系，致力于把具有市场前景的科研成果推向市场。愿与中、外同仁广泛合作， 为中国的教育与科研事业在广范围、高层次上提供服务。
详细信息
应用方向：科研与教学
产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）
产品配置：
★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸
★刻蚀材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。
★刻蚀腔体：高真空系统
★Load-Lock：低真空系统 或 高真空系统。双片装，样品自动运送。
★刻蚀不均匀性：±3%-±6%
★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）
★工作台：可升降，包含水冷
★电源配置：上电射频，下电偏压，包含自动匹配
★气路数量与种类：6路气路，其中2路耐腐蚀VCR焊接 或 用户选配
★深硅刻蚀系统：可选配
★He冷背吹系统：可选配
★终点检测控制：可选配质谱仪
★操作模式：全自动+半自动控制
