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MSP-300/400/5100/6200 磁控溅射镀膜设备
- 型号
- MSP-300/400/5100/6200
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北京中科复华科技有限公司是一家致力于为半导体领域和微纳米科学领域提供综合性解决方案，为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供的半导体设备仪器和微纳米科学仪器，拥有一支经验丰富、技术过硬的技术团队。能够出色地完成售前、售中、售后的服务。 未来公司将不断和引进在微纳米科学领域中起重要作用的新仪器和新产品，同时也与全国各所的大学、学院和科研院所建立了良好的合作关系，致力于把具有市场前景的科研成果推向市场。愿与中、外同仁广泛合作， 为中国的教育与科研事业在广范围、高层次上提供服务。
详细信息
应用方向：科研与教学
产品优势：效率高+多功能；垂直溅射+倾斜共溅射
产品配置：
★样片数量及尺寸：6片Ф2英寸（垂直溅射）+ 1片Ф4英寸（共溅射）
★溅射材料：金属；非金属；化合物等薄膜材料。
★溅射腔体：高真空系统。
★溅射不均匀性：≤±3%-±5％
★磁控靶：2-4支；可调角度；可调距离
★溅射方向：样品下置（自上而下溅射）或 样品上置（自下而上溅射）
★加热：常规加热，可选高温加热
★电源配置：射频；直流；直流脉冲；直流偏压
★清洗功能：可选配考夫曼离子源
★快速反应溅射功能：可选配Speedflo
★膜厚监控功能：可选配晶控膜厚在线监测与终点控制
★操作模式：全自动+半自动控制
类似产品：MSP-300C；MSP-400B
选型参考：样品在下（MSP-300B）；样品在上（MSP-300BT）；配置考夫曼离子源（MSP-300BI/MSP-300BTI）
应用方向：棒状样品批量生产
产品优势：棒状样品侧壁镀膜，立式设备
产品配置：
★样片数量及尺寸：30-300根；Ф1mm～Ф30mm，L30mm～L200mm（依据靶尺寸和样品尺寸定制）
★溅射材料：金属；非金属；化合物等薄膜材料。
★溅射腔体：高真空系统。
★溅射不均匀性：≤±5%-±8％
★磁控靶数量：2-4支矩形磁控靶
★磁控靶安装形式：立式安装
★样品夹具：公转+自转
★加热：常规加热
★电源配置：射频；直流
★清洗功能：可选配离子源清洗、射频清洗、反溅清洗模式
★快速反应溅射功能：可选配Speedflo
★膜厚监控功能：可选配晶控膜厚在线监测与终点控制
★操作模式：全自动+半自动控制
类似产品：片状样品批量镀膜（MSP-5100C）
