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EPEE系列 等离子 化学气相沉积系统
深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1、公司介绍
深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
2、成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额
EPEE系列 等离子化学气相沉积系统
1、先进的单片和多片式架构,满足量产和研发客户需求
Advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and R&D
2、高效传输系统,智能软件调度算法
Efficient transport system, intelligent software scheduling
3、高效远程等离子体清洗系统,优异的颗粒控制
Efficient remote plasma cleaning system, superior particle control
4、支持气态硅烷、液态 TEOS 和碳膜等工艺
Supporting SiH4 base ,TEOS base deposition and Carbon process
5、支持在线膜厚和清洗终点实时监测
Supporting on-line film thickness and dry-clean endpoint detection
技术参数
1、晶圆尺寸 4/6/8 英寸兼容
2、适用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳
3、适用工艺 氧化硅图形化衬底层、钝化层、绝缘层、掩膜层
4、适用领域 科研、化合物半导体、新兴应用、集成电路