起订量:
iTops PVD AlN 溅射系统
中级会员第3年
经销商深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述
iTops PVD AlN 溅射系统,采用托盘形式,可兼容 2/4/6 英寸。
2. 设备用途/原理
iTops PVD AlN 溅射系统,采用托盘形式,可兼容 2/4/6 英寸,工艺温度在 0~700℃之间。占地面积小,结构简单,操作灵活,维修方便,设备稳定,运营成本低。
3. 设备特点
晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容。适用材料氮化铝。适用工艺氮化铝缓冲层溅射。适用域化合物半导体。百科:半导体溅射系统的原理主要是利用高能离子撞击靶材,使靶材的原子或分子从表面逸出,并沉积在半导体基片上,形成一层薄膜。溅射技术可以分为多种类型,包括直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射等,不同类型的溅射技术适用于不同的应用场景。例如,直流溅射适用于导电材料的镀膜,而交流溅射则适用于导电性较差的材料。反应溅射可以在溅射过程中引入反应气体,以形成特定的化合物薄膜。磁控溅射则通过加入磁场来控制电子的运动路径,提高溅射效率和薄膜质量。