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Ganister™ A 系列 8英寸离子束沉积(IBD)设备

型号
Ganister™ A 系列
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1. 产品概述

Ganister™ A离子束沉积设备,是针对低温、高致密、高均匀性薄膜沉积工艺所开发的专用产品,在硬盘磁头、硬磁偏置层、布拉格反射镜等器件的制备中有着重要的应用。该设备采用溅射成膜,靶材选择范围广。而其采用的四槽旋转靶材基座,更可处理多达四种靶材。选配的辅助离子源,可以实现原位预清洗、优化膜层致密性等功能。此外,Ganister™ A的辅助离子源也可进行离子束刻蚀,一个腔室内兼备两种工艺,显著提高了该设备的功能。

2. 系统特性

在低温、超低压工艺模式下,形成高致密优质膜层

双离子源结构(溅射+辅助离子源),辅助源用于清洗与辅助溅射

可高精度控制沉积过程,并能保障批次间的膜层重复性

实时光控设备,用来监控、分析、调整膜层光谱

选配:可在一个腔室内同时实现IBD和离子束刻蚀(IBE)功能

适用于8英寸晶圆



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