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Epiluvac ER3-C1 SiC分子外延系统
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
Epiluvac ER3-C1
晶圆直径可达 200 mm (8“)
通过热壁拓扑结构实现出色的均匀性
先进的动态气体流量控制,可实现佳生长速率和掺杂均匀性。
具有多个加热区的出色温度曲线
不含石英,适用于氯化工艺
在清洁的惰性气氛中进行热晶圆装载/卸载可大限度地减少颗粒污染并延长石墨部件的使用寿命
模块化设计,两个、三个或四个反应器组成集群配置。每个反应器都针对特定的生长步骤进行了优化
在受控环境中在反应器之间进行晶圆运输
高达 1800 °C
适用于中小批量生产和研发
Epiluvac EPI 1000-C:
热壁 CVD 具有出色的均匀性
大 150 mm 基板直径
单晶圆和手动装载
非常适合研发
Epiluvac ER3-N1:
上述ER3-C1系统的GaN版本
可选的原位监测
获得利的温度控制,可大限度地减少晶圆弯曲
Epiluvac ER3-C1:
晶圆直径可达 200 mm (8“)
通过热壁拓扑结构实现出色的均匀性
先进的动态气体流量控制,可实现佳生长速率和掺杂均匀性。
具有多个加热区的出色温度曲线
不含石英,适用于氯化工艺
在清洁的惰性气氛中进行热晶圆装载/卸载可大限度地减少颗粒污染并延长石墨部件的使用寿命
模块化设计,两个、三个或四个反应器组成集群配置。每个反应器都针对特定的生长步骤进行了优化
在受控环境中在反应器之间进行晶圆运输
高达 1800 °C
适用于中小批量生产和研发
Epiluvac EPI 1000-C:
热壁 CVD 具有出色的均匀性
大 150 mm 基板直径
单晶圆和手动装载
非常适合研发
Epiluvac ER3-N1:
上述ER3-C1系统的GaN版本
可选的原位监测
获得利的温度控制,可大限度地减少晶圆弯曲