光刻机，亦称为掩膜对准曝光机，是半导体芯片制造中的关键设备，主要负责将集成电路的设计图案精确地转移到硅晶圆上，以生产出微小、精确、高效的集成电路。在光刻工艺中，光刻机的性能直接影响到最终产品的质量和性能。

光刻机的分类主要基于其曝光方式，可分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机。直写式光刻机根据是否使用掩膜版，又分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机，作为一种创新的曝光技术，它不依赖于传统的掩膜版，而是通过直接对晶圆进行曝光来实现图案的转移，这种技术不仅提高了生产速度，降低了成本，而且还增加了光刻工艺的灵活性。

高灵活性 科研版无掩膜光刻机——ACA系列

ACA系列无掩膜光刻机是专为科学研究而设计的，它具有以下优势：

高灵活性：基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，能够快速适应不同的实验需求和设计变更。

高精度：提供精确的光刻效果，满足科研中对细节和精度的严格要求。

无掩膜：省去了掩膜版的制作和更换，大大缩短了实验周期，降低了成本。

ACA系列无掩膜光刻机的亮点包括：

特征尺寸0.8μm，适用于精细图案的制造。

6英寸光刻面积，满足大多数科研实验的需求。

高精度步进光刻，确保了图案转移的准确性。

ACA Pro无掩膜光刻机的亮点：

特征尺寸0.4μm，提供了更高的光刻精度。

6英寸光刻面积，适应多种尺寸的晶圆。

高精度步进光刻，适合复杂的图案制造。

ACA Master无掩膜光刻机的亮点：

特征尺寸0.4μm，保持了光刻精度。

6英寸光刻面积，兼容多种标准尺寸的晶圆。

扫描光刻/步进光刻可切换，提供了更多的光刻方式选择，增强了设备的适用性。

ACA系列高灵活性 科研版无掩膜光刻机为科研工作提供了强大的支持，其长寿命、高功率的紫外光源保证了设备的稳定性和可靠性，而原位光绘和交互式套刻指引功能使得光刻和套刻过程更加容易和精准。这些特点使得ACA系列成为科学研究领域的理想选择，助力科研人员在进行光刻相关实验时取得更加精确和可靠的结果。