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CY-PECVD-240T-SS 等离子增强化学气相沉积设备

型号
CY-PECVD-240T-SS
郑州成越科学仪器有限公司

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郑州成越科学仪器有限公司位于郑州市*开发区,是一家专业从事材料制备设备研发、生产和销售为一体的高科技公司。重点专注于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向。

郑州成越科学仪器有限公司的研发团队凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款*材料制备设备。主要产品有:微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;

其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。

近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界*好评。

如果您正在被国货的产品质量所困扰,选择我们将改变您对国货的某些观念;如果您正在为自己的实验方案的实施而茫然,选择我们将有专业的技术团队为您量身定做!如果您正在为故障设备的售后无人理会而发愁,选择我们一切的问题将由我们负责到底。郑州成越科学仪器有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈。


详细信息

简单介绍:

等离子增强化学气相沉积设备采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜详情介绍:化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
主要功能及特点:
等离子增强化学气相沉积设备利用平板电容式辉光放电原理,将通入沉积室的工艺气体解离并产生等离子体,被解离的基团在等离子体中重新发生化学反应,由于等离子体存在,促进气体分子的分解、化合、激发和电离,促进反应活性基团的生成,从而降低沉积温度,在具有一定温度的基片上沉积形成薄膜。可根据工艺调节等离子体的密度和能量,控制薄膜的生长速率和微结构。
产品参数:


等离子增强化学气相沉积设备



产品名称

桌面式4英寸平板等离子体增强化学气相沉积PECVD

产品型号

CY-PECVD-240T-SS

供电电源

AC220V 50Hz

射频电源

信号频率

13.56MHz

功率输出范围

0~500W (还可选择150W, 300W, 1000W)

工作腔体

加热温度

RT-500℃(还可选择600℃,800℃,1000℃等)

样品台尺寸

Φ100mm(兼容4英寸及以下样品)

样品台转速

1-20rpm 可调

腔体材质

不锈钢

观察窗

Φ60mm, 带挡板

供气系统

通道数

(可根据需要选择其他通道数,其他气体种类,其他测量范围)

测量单位

质量流量计

测量范围

通道: 0200SCCM for O2  

B通道: 0200SCCM for N2

C通道: 0200SCCM for Ar

真空系统

前级泵抽速

1.1L/s

分子泵抽速

60L/s

真空测量

复合真空计

真空度

5.0*10-3Pa

水冷机

水流速

10L/min

冷却功率

50W/


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