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CY-PECVD100-1200-Q CVD化学气相沉积系统
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生产厂家郑州成越科学仪器有限公司位于郑州市*开发区,是一家专业从事材料制备设备研发、生产和销售为一体的高科技公司。重点专注于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向。
郑州成越科学仪器有限公司的研发团队凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款*材料制备设备。主要产品有:微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;
其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。
近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界*好评。
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简单介绍:
CVD化学气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域,用于制备各种功能性薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用
详情介绍:
CVD气相沉积系统是一种常用的薄膜制备技术,通过在高温下将气体反应物质与基底表面反应,形成薄膜。
1. 反应室温度:通常在几百到千度之间,具体取决于所需的反应温度和材料。
2. 反应气体:根据所需的薄膜材料和结构,可以使用不同的反应气体,如氨气、氢气、氧气、二氧化硅等。
3. 压力范围:通常在几百帕到几千帕之间,具体取决于反应物质和反应条件。
4. 反应时间:根据所需的薄膜厚度和质量,反应时间可以从几分钟到几小时不等。
5. 基底材料:CVD系统可以用于各种基底材料,如硅、玻璃、金属等。
6. 应用领域:CVD气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域,用于制备各种功能性薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用。
产品名称 | CVD化学气相沉积系统 | |
产品型号 | CY-PECVD100-1200-Q | |
频电源 | 信号频率 | 13.56MHz±0.005% |
功率输出 | 0~300W | |
*大反射功率 | 100W | |
反射功率 | <3W (*大功率时) | |
功率稳定性 | ±0.1% | |
管式炉 | 管子材质 | 高纯石英 |
管子外径 | 100mm | |
炉膛长度 | 440mm | |
加热区长度 | 200mm+200mm (双温区) | |
连续工作温度 | ≦1100℃ | |
温控精度 | ±1℃ | |
温控模式 | 30段程序控温 | |
显示模式 | LCD触摸屏 | |
密封方式 | 304 不锈钢真空法兰 | |
供气系统 | 通道数 | 6通道 |
测量单元 | 质量流量计 | |
测量范围 | A 通道: 0~200SCCM, 气体为H2 | |
B 通道: 0~200SCCM,气体为CH4 | ||
C 通道: 0~200SCCM,气体为 C2H4 | ||
D通道: 0~500SCCM,气体为 N2 | ||
E通道: 0~500SCCM,气体为 NH3 | ||
F通道: 0~500SCCM, 气体为 Ar | ||
测量精度 | ±1.5%F.S | |
工作压差 | -0.15Mpa~0.15Mpa | |
接头规格 | 1/4" 卡套接头 | |
气体混合罐 | 1L | |
真空系统 | 机械泵 | 双极旋片泵 |
抽速 | 1.1L/S | |
真空测量 | 电阻规 | |
极限真空 | 0.1Pa | |
抽气接口 | KF16 | |
滑 轨 | 炉体可以滑动,实现快速降温 | |
供电电源 | AC220V 50Hz |