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CY-PECVD100-1200-Q PECVD气相沉积
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生产厂家郑州成越科学仪器有限公司位于郑州市*开发区,是一家专业从事材料制备设备研发、生产和销售为一体的高科技公司。重点专注于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向。
郑州成越科学仪器有限公司的研发团队凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款*材料制备设备。主要产品有:微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;
其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。
近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界*好评。
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简单介绍:
PECVD气相沉积在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用
详情介绍:
是化学气相淀积的一种,其特点是在低温下利用等离子体的激活作用来增强化学气相沉积反应。这种方法的优点是沉积温度低,沉积速率快,而且制得的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及**的台阶覆盖性。
应用领域:
等离子增强CVD系统可以用于:石墨烯制备、硫化物制备、纳米材料制备等多种试验场所。可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、**装饰等领域,在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用.
技术参数:
产品名称 | PECVD气相沉积 |
产品型号 | CY-PECVD-500T-SS |
腔体尺寸 | φ500 |
温区长度 | 200 |
射频电源 | 500W- |
温度 | 1000℃- |
前级泵 | 分子泵组 |
显示类型 | T |
温区 | I- |
水冷机 | CW5200 |
腔体材质 | SS |
样品加热加热温度 | RT-1000℃以上,温控精度:±1°C,采用控温表进行控温; 可调转速:1-20rpm可调 |
喷淋头尺寸 | Φ90mm,喷淋头与样品之间电极间距40-100mm在线连续可调(可根据工艺调整),并带有标尺指数显示 |
样品台 | 直径200mm |
沉积工作真空 | 0.133-133Pa(可根据工艺调整) |
顶部法兰 | 可通过马达提升,基板更换方便,有可视口 |
基板台 | 基板台的线性和方位角运动,基板加热和温度控制,安装台和触摸屏控制,基板线性运动是手动控制的,基板旋转是由直流电动机控制的 |
真空腔体 | 前开门式,φ500mm X 500mm 不锈钢材质 |
观察窗 | φ100mm 带挡板 |
质量流量计 | 六路质量流量计 |
气路数量 | 六路 |
承压范围 | -0.15Mpa~0.15Mpa |
量程 | 0~100 SCCM(氧气) 0~100 SCCM(CF4) 0~200 SCCM (SF6) 0~200 SCCM (氩气) 0~500 SCCM (其他气体空气) 0-500sccm (其他气体氮气) |
流量控制范围 | ±1.5% |
气路材料 | 304不锈钢 |
管道接口 | 6.35mm卡套接头 |
真空系统 | 前级泵:无油真空泵4.7L/S 分子泵:1200L/S |
测量范围 | 1×10-5~1×105Pa |
测量精度 | 1×10-5~1×10-4Pa ±40%的读数 1×10-4~1×105Pa ±20%的读数 |