大型旋涂仪POLOS450是为光刻胶匀胶甩胶应用设计的高精度旋涂仪器,适用于直径450mm以下的基片使用。手动化学分配,2条自动静态分配线,气动盖打开和关闭，卡盘适配器和一个真空卡盘，最多可用于3个晶片，速度最大1500rpm，腔室最大直径约450mm
大型旋涂仪POLOS450规格参数
桌面型号，独立版本
适合直径不超过450mm的衬底
手动化学品分配，2条自动静态分配线
气动盖打开和关闭
卡盘适配器和一个真空卡盘，最多可用于3种晶片尺寸
最高转速1500rpm

腔室最大直径约450mm

大型旋涂仪POLOS450是为光刻胶匀胶甩胶应用设计的高精度旋涂仪器,适用于直径450mm以下的基片使用。手动化学分配,2条自动静态分配线,气动盖打开和关闭，卡盘适配器和一个真空卡盘，最多可用于3个晶片，速度最大1500rpm，腔室最大直径约450mm
大型旋涂仪POLOS450规格参数
桌面型号，独立版本
适合直径不超过450mm的衬底
手动化学品分配，2条自动静态分配线
气动盖打开和关闭
卡盘适配器和一个真空卡盘，最多可用于3种晶片尺寸
最高转速1500rpm
腔室最大直径约450mm