电子束蒸发系统EB-4P也是电子束沉积系统,有四个容量不同的袖珍坩埚和各种电源。
电子束蒸发系统EB-4P*可定制,腔室可以设计成接受额外的PVD源。未使用的端口用法兰堵塞，以便以后添加。准备好后，可以添加热阻源或直流和射频溅射或蚀刻。
电子束蒸发系统EB-4P是纳米技术、光学、显微镜、分子束外延、功能和装饰涂层等应用中沉积金属、氧化物、磁性材料和电介质的理想选择。
电子束蒸发系统EB-4P专为实验室或研发、中试生产、大学研究或小规模生产量身定制。紧凑的结构使其成为洁净室应用的理想选择。
电子束蒸发系统EB-4P可生产多种材料的均匀粘附薄膜。电子束蒸发可在低污染的情况下产生优异的速率控制沉积，并具有多轴旋转能力，可在任何尺寸或形状的样品上获得最佳均匀性。
电子束蒸发系统EB-4P特点
电抛光不锈钢腔室（D形盒）
带手动快门的前门上的4“直径观察口
带水冷坩埚的单/多槽电子束源（从4cc到75cc）
带X-Y扫描控制器的高压电源（3kW至15kW）
匹配双级涡轮分子真空泵系统
旋转叶片泵
带沉积控制器的石英晶体厚度传感器
带数字显示和读数的全量程真空计
半自动控制系统
可选项目
冷水机
具有样本传输适应性的负载锁定系统
多轴基板台旋转
石英灯加热器（从300°C到800°C）
行星基台
PLC控制系统
PC控制系统
水冷基板级
SQC 310膜厚监测器和沉积控制器
电动快门组件
大容量坩埚及电源
干式涡旋泵
低温泵送系统
冷阴极或热阴极电离计
可调尺寸和高度，适用于基板平台
用于未来升级的额外备用法兰
带数字读数的质量流量控制器
射频清洗能力
现场掩模变换器