ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案，同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层。ALD系统AT410不仅推动了边界，而且是当前样品制备过程的有效替代品，所有样品制备都在可比价格点的台式配置内。
用于电子显微镜的样品通常受益于添加薄膜。它通常是导电材料，如Pt、Pd或Au。这些导电层有助于抑制充电，减少局部束加热造成的热损伤，并改善二次电子信号。传统上，这些薄膜是使用PVD技术生长的。随着技术的进步，某些类型的样品不适用于PVD，因为需要涂层的特征不适用于现场生长线。
研究人员将受益于获得通过ALD生长的导电薄膜，因为已经开发了一种优化小样本导电金属生长的系统。
ALD系统AT410特点
适合4''样品
压力可控0.1-1.5TORR
满足小样品镀膜需要
7''触摸屏 PLC控制系统
精密以规定剂量体积给料系统
所有金属密闭系统
ALD系统AT410规格参数
腔体温度范围：室温~325℃± 1 °C
Precursor前体温度：室温RT~150 °C ± 2 °C
流线型腔室设计，腔室体积小
快速循环能力（高达1.2nm/min Al2O3）和高曝光、深穿透处理
ALD系统AT410可沉积材料