高级自动光谱椭偏仪是自动变角椭偏仪,能够自动改变测角计入射角的spectroscopic ellipsometer,角度改变步进高达0.01度，光谱范围覆盖250-1700nm, 是宽波段高精度自动椭偏仪。
高级自动光谱椭偏仪典型应用领域
半导体行业（PR、氧化物、氮化物等）
液晶显示器（ITO、PR、Cell gap……）
光学薄膜涂层、TiO2、SiO2、Ta2O5
半导体化合物
MEMS/MOEMS中的功能膜
非晶硅、纳米硅和晶体硅
光伏薄膜、CdTe、CdS、CIGS、AZO、CZTS

高级自动光谱椭偏仪光谱范围覆盖从深紫外到可见光再到近红外.深紫外波长非常适合测量超薄薄膜，比如纳米厚度薄膜厚度，比如硅晶圆的薄膜厚度，典型值在2nm左右。对于测量许多材料的带隙，深紫外光谱椭偏仪也非常重要。
椭圆偏振技术是通过研究光束在样本表面反射后偏振态变化而获得表面薄膜厚度等信息的薄膜测量技术。
与反射计或反射光谱技术不同的是，光谱椭偏仪参数Psi 和Del并非在常见入射角下获得。通过改变入射角大小，可获得许多组数据，这样就非常有助于*化椭偏仪测量薄膜或样本表面的能力，因此变角椭偏仪功能远远大于固定角椭偏仪。
改变椭偏仪入射角的方法有两种，一种是手动调节，一种是自动调节入射角，我们可提供两种模式的椭偏仪。

高级自动光谱椭偏仪特色
易于安装，拆卸和维护
**的光学设计
自动改变入射角，入射角分辨率高达0.01度
高功率250-1100nm光源适合多种应用
采用阵列探测器确保高速测量
测量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于实或在线监测薄膜厚度和折射率
具有齐全的光学常数数据库
提供工程师模式，服务模式和用户模式三种使用模式
灵活的工程师模式用于各种安装设置和光学模型测量
一键快速测量
全自动标定和初始化
精密样品准直界面直接样品准直，不需要额外光学
精密高度和倾斜调整
适合不同材料和不同后的样品衬底基片
2D和3D数据显示输出
高级自动光谱椭偏仪参数
波长范围：250-1700nm 
波长分辨率：1nm （深紫外）， ~3nm （可见光）， ~6nm (近红外）
测量点大小：1-5mm可调
入射角：20-90度可调
入射角分辨率：0.01度
可测样品大小：100x100mm
可测样品厚度：高达10mm 
测量薄膜厚度：0nm ---30um
测量时间：~1s/点
精度：~0.25%
重复精度：<1A



高级自动光谱椭偏仪可选配件
反射或透射光度测量配件
微点测量小面积
X-Y位移台用于厚度绘图
加热台/制冷台用于薄膜动力学研究
垂直样品安装测角计
波长拓宽到IR范围
扫描单色仪配置