激光分子束外延系统Laser MBE是新型激光薄膜制备技术设备,它集成了普通分子束外延（MBE）的超高真空、原位监测的*点和脉冲激光沉积（PLD）的易于控制化学组分的*点。
激光分子束外延系统特点
增长的激光MBE解决方案：从PLD室和负载锁开始，稍后添加*多模块！
UHV PLD沉积室，通过负载锁定对衬底和目标进行UHV传输
模块化概念：轻松升级到中央传输模块和附加模块
**的工艺自动化，也适用于超晶格沉积
具有**温度测量功能的耐氧基板加热器，1000°C
激光加热基材可选
灵活的**目标操纵器，具有交叉污染屏蔽和目标转盘传送
为系统升级准备的真空室（RHEED、等离子源、OES/FTIR等）
表面通量控制选项，*可重复结果
全封闭梁线，操作方便、安全
交钥匙交付
通过互联网提供高级在线支持


PLD/激光MBE室
表面PLD/激光MBE室专为研究而设计，提供**激光MBE所需的所有功能：
衬底和PLD靶的超高压传输
冷壁设计可防止在沉积时间内从室壁放气
用于原位分析的窗口和端口：RHEED、OES或FTIR、质谱
用于附加沉积或等离子源的端口
**的表面衬底加热器或激光加热器
目标操纵器保持一个转盘，转盘上***多有五个直径为1”的PLD目标
此外，用于向腔室中供应工艺气体的两个质量流量控制器通道是标准的。它们能够自动控制工艺气氛和压力。