全自动步进重复式激光干涉光刻机

全自动步进重复式激光干涉光刻机VIL 1000纳米光刻系统具有全自动光路重构、动态锁相、高精度步进重复曝光等强大功 能。上述功能均通过我们自主研发的控制软件轻松实现。在放置旋涂好光刻胶的 晶圆后，无需任何手动设置或调整，我们的自动化系统可以在2 cm×2 cm的曝光区域内 （曝光区域还可定制其他尺寸及形状）实现纳米尺度的一维光栅或二维阵列的加工。所制 备纳米结构的周期涵盖240 nm到1500 nm的区间范围，可满足绝大部分对纳米结构的需 求。通过高精度的步进重复式曝光系统，VIL 1000系统还可以在高达8英寸的晶圆衬底上 进行纳米图案的“拼接”工艺，实现晶圆级纳米加工。其中每个“拼接”区域的纳米图案 都可由LithoPro单独设置，包括周期、晶格和特征尺寸等参数。VIL 1000系统可选配的升 级模块还包括紫外接触式曝光、特征尺寸调制及光刻工艺仿真等。 VIL 1000 纳米光刻系统非常适合在同一晶圆衬底上分区域加工不同纳米结构的应用，比如 AR表面浮雕光波导等。此外，该系统也非常有利于快速加工大面积纳米结构，实现纳米器 件的设计参数到试产验证的快速迭代。

v> 步进重复式曝光 标准配置的 VIL 1000 纳米光刻系统支持在 4 英寸晶圆上进行步 进重复式曝光，每个独立的曝光区域面积可高达 通过 升级的更高配置的工件台，最大“拼接”范围可进一步扩展到 6-8 英寸晶圆。

 全自动化参数设置 全自动的快速可重构光路模块和多轴精密工件台系统助力于制造具有 不同周期和几何形状的纳米图案，包括一维线栅和纳米点、孔、棒、 棋盘格等二维阵列。

 特征尺寸调制 / 紫外接触式曝光模块 VIL 1000 纳米光刻系统可以选配特征尺寸调制模块。通过精密调 制光刻纳米结构的占空比，该模块可提高单次曝光区域内的纳米 图案均匀性，也可用于实现经过特定设计的特征尺寸的空间调制。 此外，VIL 1000 系统还支持选配紫外接触式曝光模块，使该系统 可适用于更广泛的应用