GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用，且设备体积小巧，节约实验室空间；操作简单，适合初学人员使用。1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。
2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得最佳镀膜效果。
3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。
4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。
5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。
6、溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。
7、可用水冷溅射头、水冷载物台。