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VTC-600GD 高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控溅射仪最多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
·最多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
·可制备多种薄膜,应用广泛。
·体积小,操作简便。
·整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
·可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
产品名称 | VTC-600GD高真空磁控溅射仪 | |
产品型号 | VTC-600GD | |
安装条件 | 本设备要求在温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 | |
主要参数 | 1、电源电压:220V 50Hz | |
15、产品规格: |
序号 | 名称 | 数量 | 图片链接 |
1 | 直流电源控制系统 | (可选)套 | - |
2 | 射频电源控制系统 | 1套 | - |
3 | 膜厚监测仪系统 | 1套 | - |
4 | 分子泵(德国进口或者国产更大抽速) | 1台 | - |
5 | 冷水机 | 1台 | - |
6 | 聚酯PU管(Ø6mm) | 4m | - |
序号 | 名称 | 功能类别 | 图片链接 |
1 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | (可选) | - |
2 | 可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。 | (可选) | - |