VTC-600GD高真空磁控溅射仪
VTC-600GD高真空磁控溅射仪
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VTC-600GD高真空磁控溅射仪

VTC-600GD高真空磁控溅射仪

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-05-08 17:49:49
569
属性:
产地类别:国产;价格区间:面议;应用领域:综合;
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产品属性
产地类别
国产
价格区间
面议
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综合
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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

VTC-600GD高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

详细介绍

IMG_256

VTC-600GD 高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控溅射仪最多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。IMG_257

 

·最多可选配四个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。

·可制备多种薄膜,应用广泛。

·体积小,操作简便。

·整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

·可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。IMG_258

产品名称

VTC-600GD高真空磁控溅射仪

产品型号

VTC-600GD

安装条件

本设备要求在温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要

主要参数

1、电源电压:220V  50Hz
2、总功率:<3.5KW
3、腔体内径:Ø300mm
4、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到E-5mbar)
5、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
6、靶枪数量:4个
7、靶枪冷却方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
9、直流溅射功率:500W(可选)
10、射频溅射功率:300W
11、载样台:Ø140mm
12、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
13、保护气体:Ar、N2等惰性气体
14、进气气路:质量流量计控制2路进气,1个流量为100 SCCM,1个流量为200 SCCM

15、产品规格:
·尺寸:
主机尺寸:850mm×760mm×660mm,
整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
·重量:190kg

IMG_259


IMG_261

序号

名称

数量

图片链接

1

直流电源控制系统

(可选)套

-

2

射频电源控制系统

1套

-

3

膜厚监测仪系统

1套

-

4

分子泵(德国进口或者国产更大抽速)

1台

-

5

冷水机

1台

-

6

聚酯PU管(Ø6mm)

4m

-


IMG_263

序号

名称

功能类别

图片链接

1

金、铟、银、铂等各种靶材

(可选)

-

2

可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。

(可选)

-

 

 

 

 

 

 

 

 

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