VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪_磁控溅射镀膜-沈阳科晶自动化设备有限公司手机版

产品简介

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。备有三个靶枪和三个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点

详细介绍

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置三个靶枪，两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。

产品名称	VTC-600-3HD-1000双靶磁控溅射仪
产品型号	VTC-600-3HD-1000
主要参数	1、输入电源：220V/50Hz 2、溅射靶数量：3 3、腔体内径：Ø300mm 4、靶枪冷却方式：水冷 5、极限真空度：7.4E-5pa 6、真空室规格：Φ300×330 mm 7、真空系统：VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 8、恢复真空：系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min（系统短时间暴露大气） 9、充气系统：2路质量流量计（１路氩气100scc、1路氩气200scc）特殊气体可定制 10、溅射靶规格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 11、样品台：Φ70mm//可加热（室温～1000℃）
产品规格	主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm

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