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VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
产品名称 | VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪 |
产品型号 | VTC-600-2HD-1000 |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要参数 | 1、输入电源:220V/50Hz |
产品规格 | 主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm |