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EVG501-晶圆键合机

型号
岱美仪器技术服务(上海)有限公司

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代理商

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膜厚仪,轮廓仪,EVG键合机,EVG光刻机,HERZ隔震台,Microsense电容式位移传感器

岱美有限公司(Dymek Company Ltd ,下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的高科技设备分销商,主要为数据存储、半导体、光通讯、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于香港,中国台湾,中国大陆,泰国,菲律宾,马来西亚及新加坡等地区。

岱美在中国大陆地区主要销售或提供技术支持的产品:

晶圆键合机、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、光学三维轮廓仪、硅穿孔TSV量测、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、主动及被动式防震台系统、应力检测仪、电容式位移传感器等。

岱美重要合作伙伴包括有:n&k Technology ; Veeco di, Wyko, Dektak, IBE, IBD, MTI; Imago; 4D; First Nano; GatanSagitta; AXIC; Tamarack; Thermo Noran; Magnetic Recording Solutions; Schmitt; EVG; Shb; SPTS; ADE; CETR; Contrade; DeWeyl; Filmetrics - Greater China; Global Optron; Herz; Innovative Instrumentation Incorporated; LESCO; Microphysics; OSC; Palomar; PPL JPS; Strasbaugh; Tru-Si; VIC; Westbond; Diamond Innovations; Innovative Organics;nPoint;Photonic Cleaning Technology

如有需要,请联系我们,了解我们如何开始与您之间的合作,实现您的企业或者组织机构长期发展的目标。



详细信息

EVG晶圆键合机参数

大键合力 20kN
加热器尺寸 150mm(小为单个芯片) 200mm(小100mm)
真空 标准0.1mbar(可选1E-5 mbar)

 

EVG501-晶圆键合机 先进封装 TSV 微流控加工

基本功能:用于学术和工业研究的多功能手动晶圆键合系统。

适用于:微流体芯片,半导体器件处理,MEMS制造,TSV制作,晶圆先进封装等。

一、简介

EVG键合机EVG501是一种高度灵活的晶圆键合系统(晶圆键合机),可处理从单芯片到150 mm(200 mm键合室的情况下为200 mm)的基片。该工具支持所有常见的晶圆键合工艺,如阳极,玻璃料,焊料,共晶,瞬态液相和直接键合。易于操作的键合室和工具设计,让用户能快速,轻松地重新装配不同的晶圆尺寸和工艺,转换时间小于5分钟。这种多功能性非常适合大学,研发机构或小批量生产。键合室的基本设计在EVG的HVM(量产)工具上是相同的,例如GEMINI,键合程序很容易转移,这样可以轻松扩大生产量。

二、EVG501-晶圆键合机特征

带有150 mm或200 mm加热器的键合室

*的压力和温度均匀性

与EVG的机械和光学对准器兼容

灵活的设计和研究配置

从单芯片到晶圆

各种工艺(共晶,焊料,TLP,直接键合)

可选涡轮泵(<1E-5 mbar)

可升级阳极键合

开放式腔室设计,便于转换和维护

兼容试生产需求:

同类产品中的低拥有成本

开放式腔室设计,便于转换和维护

小占地面积的200 mm键合系统:0.8㎡

程序与EVG HVM键合系统*兼容

 

 

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