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RIE-350iPC 等离子体(ICP)刻蚀设备

型号
RIE-350iPC
深圳市矢量科学仪器有限公司

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经销商

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

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公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1. 产品概述

RIE-350iPC是一种盒式装载电感耦合等离子体(ICP)蚀刻设备,可处理多达ø350毫米的载盘,用于多晶圆批量处理。该系统为各种蚀刻应用提供了坚固可靠的硬件和的工艺控制,具有较高的生产率,如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、电容器和射频滤波器。

2. 设备用途/原理

GaN、GaAs、InP和SiC的高精度蚀刻SiN和SiO2的蚀刻电介质和金属的蚀刻用于HBLED的PSS(图案化蓝宝石衬底)加工

3. 设备特点

大加工范围:ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)先进的ICP源HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil)能有效地提供均匀的高密度等离子体,并在大面积上具有优异的蚀刻均匀性。对称的疏散设计与TMP相结合,形成了高效的流动。优化的气体歧管,提供工艺气体的均匀性。可选的光学/干涉式端点检测系统可实现对多个工艺运行的精确蚀刻深度控制。

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