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RIE-200NL RIE等离子刻蚀系统
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
1. 产品概述
RIE-200NL是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统,它提高了工艺的可重复性,并允许腐蚀性气体化学。优化的工艺室设计可在ø8 "晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供优异的均匀性。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间。
2. 设备用途/原理
大加工范围:ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)。对称的排空设计提高了蚀刻的均匀性。工艺室通过负荷锁定室与环境隔离,提高了工艺的可重复性,并可进行腐蚀性气体的化学反应。计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。自动压力控制,可精确控制工艺压力,不受气体流量影响。干式泵和系统布局便于维护。RIE-200NL设计时尚、紧凑,只需小的洁净室空间。
3. 设备特点
GaN、GaAs、InP等化合物半导体的氯基蚀刻。各种材料的蚀刻,如Si、SiO2、SiN、Poly-Si、Al、Mo、Pt、Polyimide等。故障分析中的选择性层蚀刻。