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RIE-200C RIE等离子刻蚀设备
- 型号
- RIE-200C
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
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公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
1. 产品概述
RIE-200C是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 "RIE-10NR "的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手，PLC控制全自动操作，高性能存储工艺参数，实现了高产量。
2. 设备用途/原理
Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜的高精度蚀刻。光阻剂的灰化、剥离、除尘，清除有机污染物。
3. 设备特点
大气高速传输系统，该系统配备了一个大气盒室和一个大气传输机器人，而不是通常的装载锁定室。它可以处理大ø8 "晶圆的自动加工，并且可以安装在两个盒式箱中。全自动操作，通过触摸屏可实现全自动操作，通过PLC控制可实现过程管理和数据记录。
