$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备

Lorem® A 系列 8英寸离子束塑形(IBS)设备

型号
Lorem® A 系列
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

深硅刻蚀机

在线询价

深硅刻蚀机

在线询价

等离子刻蚀集群系统

在线询价

AL实时监控器

在线询价

RIE等离子刻蚀系统

在线询价

等离子刻蚀系统RIE

在线询价

RIE等离子蚀刻系统

在线询价

低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1. 产品概述

Lorem® A 系列常规 IBS 设备,由离子源栅极引出正离子并加速,中性束流撞击样品表面,溅射形成刻蚀图像。由于等离子体的产生远离晶圆空间,起辉不受非挥发性副产物的影响。这种物理方案,几乎可以用来刻蚀任何固体材料,包括金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体等。栅网拉出的离子束的能量和密度可以独立控制,提升了工艺可控性;载片台的角度可调整,实现离子束倾斜入射,可用于特殊图案的刻蚀,也适用于侧壁清洗等工艺。

2. 系统特性

Lorem®A系列可选8/6/4英寸电极,适用于不同尺寸的晶圆

如配置标准口径离子源,刻蚀均匀性(1 σ)达到< 3%;还可配置大口径离子源,刻蚀均匀性(1 σ)达到< 2%

样品台可偏转(tilt),偏转范围:-90°到+80°,实现离子束倾斜入射

工艺过程中,样品台可自转

提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方式



相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :