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Herent® Chimera® A 12英寸硬掩膜刻蚀设备

型号
Herent® Chimera® A
深圳市矢量科学仪器有限公司

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经销商

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

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公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

1. 产品概述:

Herent® Chimera® A 金属硬掩膜刻蚀设备,为针对 12 英寸 IC 产业的后道铜互连中氮化钛(TiN)金属硬掩膜刻蚀(metal hardmask open) 这一重复道次高的工艺所开发的专用产品,以满足 12 英寸产线的各种硬质掩膜刻蚀需求。此外,Chimera® A 硬掩模刻蚀腔可作为 LMEC-300™ 设备的选配模块,实现从金属硬掩模刻蚀到器件功能层刻蚀的一体化工艺。

12英寸硬掩膜刻蚀设备

2. Herent® Chimera® A系统特性

Herent® Chimera® A 金属硬掩膜刻蚀设备是面向 12 英寸集成电路制造的量产型设备

设备由电感耦合等离子体刻蚀腔(ICP etch chamber)及传输模块(transfer module)构成

适用于 55 纳米及其它技术代的 TiN 等硬掩膜刻蚀工艺

为针对 12 英寸 IC 产业的后道铜互连中氮化钛(TiN)金属硬掩膜刻蚀(metal hardmask open) 这一重复道次高的工艺所开发的专用产品,以满足 12 英寸产线的各种硬质掩膜刻蚀需求。此外,Chimera® A 硬掩模刻蚀腔可作为 LMEC-300™ 设备的选配模块,实现从金属硬掩模刻蚀到器件功能层刻蚀的一体化工艺。



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