$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备

Haasrode® Avior® A 电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备

型号
Haasrode® Avior® A
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

部件镀膜设备

在线询价

薄膜沉积镀膜系统

在线询价

原子层沉积ALD

在线询价

原子层沉积ALD

在线询价

金属有机化学气相沉积MOCVD

在线询价

金属化学气相沉积MOCVD

在线询价

金属有机化学气相沉积

在线询价

原子层沉积ALD

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备

1. 产品概述:

CCP腔室适用于制造微纳结构的等离子刻蚀技术。在反应离子刻蚀过程中,等离子体中会包含大量的活性粒子,与表面原子产生化学反应,生成可挥发产物后,随真空抽气系统排出。鲁汶仪器的 Haasrode® Avior® A 在性价比和空间利用率上优点突出,可提供各种不同材料的刻蚀解决方案。

单腔室电容耦合等离子体(CCP)机适用于光刻胶残胶去除(打底膜)、介质刻蚀等工艺可用于6英寸及以下晶圆

2. 系统特性

单腔室电容耦合等离子体(CCP)机台

适用于光刻胶残胶去除(打底膜)、介质刻蚀等工艺

可用于6英寸及以下晶圆



相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :