$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备

PlasmaPro 100 Polaris 单晶圆刻蚀系统

型号
PlasmaPro 100 Polaris
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

深硅刻蚀机

在线询价

深硅刻蚀机

在线询价

等离子刻蚀集群系统

在线询价

AL实时监控器

在线询价

RIE等离子刻蚀系统

在线询价

等离子刻蚀系统RIE

在线询价

RIE等离子蚀刻系统

在线询价

低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

 

 

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

    1. 产品概述

凭借在蚀刻GaN,SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验,我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精细的刻蚀效果提供了智能解决方案,使您在行业中能保持竞争优势。

2. 特色参数

高效的刻蚀速率

低购置成本

为腐蚀性的化学成分而设计

出色的刻蚀均匀性

适用于蓝宝石的静电压盘技术

蓝宝石和硅上的GaN

高导通抽气系统

可与其它PlasmaPro系统集成

主动冷却电 - 在刻蚀过程中保持样品温度。

高功率ICP源 - 产生高密度等离子体。

可靠的硬件且易于维护 - 可保持长时间正常运转。

磁场垫环 - 增强离子的控制和均匀性。

静电压盘技术 - 适用于蓝宝石,以及蓝宝石和硅基的GaN。

加热的腔室内衬 - 优化以减少腔壁沉积。

先进的自动匹配单元(AMU) - 提供快速,高效和准确的匹配,确保了工艺的高度精准重复性


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :