$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>无掩模光刻机/直写光刻机

MS6-CA 手动光刻机

型号
MS6-CA
深圳市矢量科学仪器有限公司

中级会员3年 

经销商

该企业相似产品

湿法匀胶工作台

在线询价

湿法匀胶工作台

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价

匀胶机

在线询价
冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。








详细信息

1.基本概述
MS6-CA手动光刻机,作为一种手动操作的光刻设备,通过手调旋钮来改变其X轴、Y轴和角度(如theta角)以完成对准。虽然其对准精度相对较低,但在某些特定的应用场景下,如小批量生产、研发实验或教学演示中,仍然具有一定的应用价值。

2.主要特点

手动操作:MS6-CA光刻机采用手动调节方式,用户可以通过旋钮直接控制设备的移动和定位,无需复杂的程序控制。
灵活性高:由于采用手动操作,用户可以根据实际需要灵活调整对准精度和曝光参数,适用于多种不同的应用场景。
成本较低:与全自动或半自动光刻机相比,MS6-CA手动光刻机的制造成本和维护成本相对较低,适合预算有限或需求量不大的用户。
3.性能指标

虽然具体的性能指标可能因产品型号和生产厂家而异,但一般来说,MS6-CA手动光刻机的性能指标可能包括以下几个方面:

支持基片尺寸范围:根据设备设计,MS6-CA可能支持多种不同尺寸的基片。
分辨率:光刻机的分辨率决定了其能够制造的电路图形的小尺寸。MS6-CA的分辨率可能受到其物镜设计和曝光方式等因素的限制。对准精度:由于MS6-CA是手动操作的光刻机,其对准精度可能相对较低,但仍能满足一定精度的加工需求。
曝光方式:MS6-CA可能采用接触式、接近式或投影式等不同的曝光方式,具体取决于设备的设计和应用需求。
4.应用场景

MS6-CA手动光刻机主要适用于以下场景:

小批量生产:在芯片制造、微电子器件生产等域,对于小批量或试制阶段的产品,MS6-CA手动光刻机可以提供灵活且成本较低的解决方案。
研发实验:在科研机构或高校实验室中,MS6-CA手动光刻机可用于研发实验和教学演示,帮助学生和研究人员了解光刻工艺的基本原理和操作技巧。
特殊应用:在某些特殊应用场景下,如需要处理非标准基片或进行特殊工艺的实验中,MS6-CA手动光刻机也可能发挥重要作用。


相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :