超高分辨率电子束光刻EBL(CABL-UH series)
超高分辨率电子束光刻EBL(CABL-UH series)

CRESTEC超高分辨率电子束光刻EBL(CABL-UH series)

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-02-12 20:24:01
1459
属性:
产地类别:进口;价格区间:150万-200万;应用领域:电子;
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产品属性
产地类别
进口
价格区间
150万-200万
应用领域
电子
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北京亚科晨旭科技有限公司

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产品简介

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。

详细介绍

超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 

超高分辨率的电子束光刻CABL-UH系列的型号包括:
CABL-UH90 (90keV) CABL-UH110 (110keV) CABL-UH130 (130keV)

技术参数:
加速电压:高130keV
单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度,无微放电
电子束直径<1.6nm
小线宽<7nm
双热控制,实现超稳定直写能力

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