专业电子束曝光系统
电子束直写系统 EBPG5150
自动化和高速度的电子束直写技术
电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
Improved Specifications
- Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
- Extreme beam current up to 350 nA
- Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
- 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
- 155mm的平台
- 小曝光特征尺寸小于8nm
- 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
- 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，大可以到1mm
- GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
- 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
可选的系统增强升级
EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让*的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。
电子束直写系统EBPG5150 应用
电子束曝光用于制作GaAs T型器件
微盘谐振器
开口环谐振器
电子束直写系统EBPG5150 产品详情
主要应用： - 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
- 高速电子束直写
- 批量生产，如化合物半导体器件
- 防伪标识
| 电子光学柱技术： | 样品台： - 覆盖完整6英寸硅片大小
- 标配2工位自动化上料
(10工位可选)
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