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RAITH多功能电子束曝光系统eLINE Plus
多功能电子束曝光系统
探索超越电子束曝光功能的纳米工程系统
超高分辨电子束曝光、成像及纳米工程系统
eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心,该系统有很多多功能附件可供用户选择,满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。
除具有专业的电子束光刻及成像功能,eLINE Plus还完美集成了纳米操纵设备,如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件,这使得eLINE Plus成为世界上*的、用途广泛的电子束光刻系统。
eLINE Plus具有模块可扩展的科研工具理念,用户可任意时间升级各种模块,使该系统适用于纳米研究中热门的研究方向。eLINE Plus从传统的电子束应用领域,扩展成为多功能的系统,打开了跨学科研究的大门。
eLINE Plus具有的小束斑尺寸(1.6nm),在前沿的高分辨纳米加工中,不论是纳米曝光还是其他聚焦电子束诱导过程中都展现出的优异性能。
主要应用:
样品台:
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| 电子枪技术:
*直写模式:
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