高性能电子束曝光机是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的解决方案，包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所，以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。

同时，系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统，使用了相同的平台设计，是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。

Improved Specifications：

Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz

Extreme beam current up to 350 nA

Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换

200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版

小曝光特征尺寸小于8nm

高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，大可以到1mm

GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

模块化的系统架构：

模块化的系统架构设计，可以让用户根据需要选择配置，可以在将来技术升级的时候，保护用户的初始投资，提供不同类型的升级策略。

电子束曝光系统EBPG5200 产品详情

高性能电子束曝光机主要应用：

100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

高速电子束直写

批量生产， 如化合物半导体器件

防伪标识

电子光学柱技术：

EBPG

电子束

100 kV

样品台：

覆盖完整8英寸硅片大小

Z轴垂直高度大范围可调(可选)

10工位自动上料