Helios 5 EXL DualBeam

Helios 5 EXL DualBeam

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具体成交价以合同协议为准
2024-08-28 14:06:19
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赛默飞电子显微镜

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产品简介

Helios 5 EXL DualBeam
AutoTEM 软件简化了 TEM 样品制备,使用户能够轻松地安排多站点作业,实现倒置、俯视和自上而下的 TEM 样品制备工作流程。

详细介绍

Helios 5 EXL DualBeam

用于半导体工业的 FIB-SEM TEM 样品制备,可实现全晶圆分析

对高性能、高能效电子设备的需求正在推动开发体积更小、特征更密集且具有复杂 3D 结构的先进器件。这些的微处理器、存储器件和其他产品的增量生产挑战性,需要对埋藏在器件深处的特征进行高分辨率、原子级分析。透射电子显微镜 (TEM) 日益成为这种分析的技术,并依赖于通过聚焦离子束 (FIB) 研磨生产的高质量样品。

主要特点


自动 TEM 样品制备软件

Thermo Scientific AutoTEM 5 软件将晶圆和缺陷导航与配方定义和执行结合在一个集成的程序中,确保具有不同专业水平的操作员之间的效率和一致性。AutoTEM 软件简化了 TEM 样品制备,使用户能够轻松地安排多站点作业,实现倒置、俯视和自上而下的 TEM 样品制备工作流程。


用于先进的样品制备的精密 FIB 研磨

Helios 5 EXL DualBeam 包括 Thermo Scientific Phoenix 离子柱,提供革命性的低电压性能和的 TEM 样品制备。

自动样品操作和提升

通过采用直观的方法将 TEM 样品提离并转移到栅格中,Thermo Scientific EasyLift 纳米操纵器可提供低漂移、高精度运动,可简单一致地创建传统或超薄 TEM 片晶。高精度、易用和快速电动旋转使 EasyLift 纳米操纵器非常适合高速倒置或俯视样品制备。

可重复、自动沉积和刻蚀

Thermo Scientific MultiChem 气体输送系统专为支持自动化 TEM 制备而开发,具有高度一致的沉积和刻蚀能力,可用于自动化应用。具有保存位置预设的电动进样针可精确定位,以优化向样品表面的可重现气体输送。MultiChem 气体输送系统的设计还具有适用性,可极大延长工具正常运行时间。

自动对齐、高分辨率和一致的结果

高性能 Thermo Scientific Elstar 电子柱采用我们的 UC 单色技术,提供更高的分辨率和 TEM 样品端点定位。新的 SEM 自动对齐确保多个工具和操作员的结果一致。

FAB 兼容自动化 FOUP 上样器 (AFL) 选项

可选的自动化 FOUP 上样器 (AFL) 使 Helios 5 EXL DualBeam 能够位于半导体晶片晶圆厂中。通过更接近晶片工艺线(近线),可提供比基于实验室的裂解晶片分析快三倍的关键信息,从而加速新工艺的开发并实现大批量生产的良率提升。

规格

Thermo Scientific Phoenix 离子柱
  • 镓聚焦离子束

  • 最大射束电流可达 65 nA

  • 可实现高样品制备质量的低电压 (500 V) 性能

  • 离子束在重合点和 30 kV 处的分辨率:使用统计方法时为 4.0 nm

  • 离子源使用寿命:保证 1,000 小时

Thermo Scientific Elstar 电子柱
  • 超高分辨率浸没透镜场发射 SEM (FESEM) 镜筒

  • 超稳定肖特基场发射枪采用 UC+ 单色器技术

  • 电子束分辨率:

    • 15 kV 下 1.0 nm

    • 1 kV 下 0.9 nm

  • 电子源使用寿命:12 个月

气体输送
  • Thermo Scientific MultiChem 气体输送系统

  • 适用于最多 6 种单一化学品的槽

  • 单气体进样系统

  • 适用于最多 3 个独立 GIS 单元的端口

检测器
  • Elstar 镜筒内 SE 检测器 (TLD-SE)

  • Elstar 镜筒内 BSE 检测器 (TLD-BSE)

  • 用于二级离子 (SI) 和二级电子 (SE) 的高性能离子转换和电子 (ICE) 检测器

样品处理
  • 使用 EFEM 自动处理 300 mm FOUP(符合 GEM300 标准)

  • 手动加载 300 mm、200 mm 和 150 mm 晶片

附加选项
  • 光学显微镜,具有 920 μm 的视野

  • 带 BF/DF/HAADF 分段的 30 kV STEM 检测器

  • Oxford EDS

  • CAD 导航兼容性(NEXS 和 Synopsys Camelot)

  • Thermo Scientific iFast 软件半导体晶圆导航(可选)

  • 基于 KLARF 1.2 和 1.8 标准的集成缺陷导航

  • 用户自定义晶圆图和工厂平面图





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