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Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀系统IBE
- 型号
- Ionfab 300 IBE
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
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详细信息
1. 产品概述
离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。百科：离子束刻蚀系统（IBE）是一种物理刻蚀技术，利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，并通过阳极电场加速的离子束对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的目的。离子束刻蚀（IBE），也称为离子铣（Ion Beam Milling），是一种具有强方向性的物理刻蚀机理，能够产生各向异性刻蚀，适用于小尺寸图形的加工。
2. 设备特点
磁阻式随机存取存储器（MRAM）；
介电薄膜；
III-V族光电子材料刻蚀；
自旋电子学；
金属电极和轨道；
超导体；
激光端面镀膜；
高反射（HR）膜；
防反射（AR）膜；
环形激光陀螺反射镜；
X射线光学系统；
红外（IR）传感器；
II-VI族材料；
通信滤波器。
