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ULHITETM NE-7800H 高密度等离子刻蚀装置
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致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
产品特性 / Product characteristics
•有磁场ICP(ISM)方式-可产生低圧・高密度plasma、为不挥发性材料加工的用设备。
•可提供对应从常温到高温(400ºC)的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。
•通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。
•该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构,是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。
•实现了长期的再现性、安定性
产品应用 / Product application
•FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.
产品参数 / Product parameters