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DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻机
- 型号
- DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
冷热台，快速退火炉，光刻机，纳米压印、磁控溅射，电子束蒸发
深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
| 写入模式 | 我 | 第二 | 第三 | 四 | V |
|---|---|---|---|---|---|
| 写作性能 - 灰度 | |||||
| 覆盖层 [3σ， nm]（超过 8“ x 8”） | 300 | ||||
| 像素网格灰度 [nm] | 100 | 200 | 250 | 500 | 1000 |
| 写入速度 DWL 2000 GS [mm2/分钟] | 12 | 50 | 75 | 270 | 870 |
| 写入速度 DWL 4000 GS [mm2/分钟] | 12 | 50 | 75 | 270 | 1000 |
| 暴露时间 DWL 2000 GS：适用于 200 mm x 200 mm [小时] | 51 | 13.5 | 9 | 2.5 | 0.8 |
| 曝光时间 DWL 4000 GS：适用于 400 mm x 400 mm [小时] | 223 | 54 | 36 | 10 | 3 |
| 最大剂量 [mJ/cm2 ] | 5600 | 1400 | 900 | 225 | 50 |
| 写入性能 - 二进制 | |||||
| 最小特征尺寸 [μm] | 0.5 | 0.7 | 0.8 | 1 | 2 |
| 最小行数和间距 [μm] | 0.7 | 0.9 | 1 | 1.5 | 3 |
| 地址网格 [nm] | 5 | 10 | 12.5 | 25 | 50 |
| 边缘粗糙度 [3σ， nm] | 40 | 50 | 60 | 80 | 110 |
| CD均匀度 [3σ， nm] | 60 | 70 | 80 | 130 | 180 |
| 注册 [3σ， nm] | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 |
| 写入速度 [mm²/minute] DWL 2000 GS | 12 | 50 | 75 | 270 | 870 |
| 写入速度 [mm²/minute] DWL 4000 GS | 12 | 50 | 75 | 270 | 1000 |
| 系统特点 | |
|---|---|
| 光源 | 405 nm 的二极管激光器 |
| 最大基板尺寸 | DWL 2000 GS：9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS：17 英寸 x 17 英寸 |
| 基板厚度 | 0 至 12 mm |
| 最大曝光面积 | DWL 2000 GS：200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS：400 x 400 平方毫米 |
| 温控流量箱 | 温度稳定性 ± 0.1°，ISO 4 环境 |
| 实时自动对焦 | 光学自动对焦或气压计自动对焦 |
| 自动对焦补偿范围 | 80微米 |
| 系统尺寸 | |
| 光刻单元 （宽度×深度×高度）;重量 | 2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克 |
| 电子架 （宽度×深度×高度）;重量 | 800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克 |
| 安装要求 | |
| 电气 | 400 VAC ± 5 %， 50/60 赫兹， 16 A |
| 压缩空气 | 6 - 10 巴 |
| 洁净室 | 建议使用 ISO 6 或更高 |
