- 面议
起订量：
SI PEALD PEALD 系统
- 型号
- SI PEALD
该企业相似产品
深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
主要功能与优势
用于敏感基材的PEALD
SENTECH SI PEALD系统具有真正的远程等离子体源，可在低温<100°C）下对敏感基材和层进行均匀和保形涂层的涂层。 在样品表面提供高通量的反应性气体种类，而没有紫外线辐射或离子轰击。
原子层沉积 （ALD） 用于精确、保形和均匀的沉积
原子层沉积技术的特点是能够沉积保形和均匀的薄膜，并在原子水平上精确控制厚度，并继续在半导体器件中发挥越来越大的作用，例如高介电原理材料的沉积。原子层沉积的一些主要应用包括传感器、光电子学和 2D 材料。
用于工艺开发和优化的原位诊断
AL 实时监测器的原位诊断可实现单个 ALD 周期的超高分辨率。其优点是确认原子层沉积（ALD）制度，缩短处理时间，并降低总拥有成本。光谱椭圆偏振仪也作为原位诊断提供，为我们的原子层沉积系统具有特定的优势。
反应器清洁简单
定期清洁反应器对于稳定和可重复的原子层沉积处理至关重要。在用于清洁我们的原子层沉积系统的提升装置的帮助下，可以很容易地打开反应器室。
集群集成
原子层沉积系统可作为SENTECH集群工具的模块使用。我们的原子层沉积系统可以与SENTECH PECVD和蚀刻系统结合使用，用于工业应用。集群工具可选地具有盒到盒加载功能。
手套箱系统集成
SENTECH ALD系统与不同供应商的手套箱兼容。
灵活性和模块化
SENTECH 原子层沉积系统允许将不同的热和/或等离子体增强原子层沉积膜组合成多层结构。热和等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 支持在一个具有最佳快门的反应器中。
SENTECH使用AL实时监测仪以及宽范围光谱椭圆偏振仪，对逐层薄膜生长进行的、超快速的原位监测。
SENTECH 原子层沉积系统可实现热和等离子体增强操作。我们的原子层沉积系统可以配置为氧化物、氮化物、二维材料沉积。3D结构可以均匀和保形涂层。凭借 ALD、PECVD 和 ICPECVD，SENTECH 提供等离子体沉积技术，用于沉积纳米级至几微米的薄膜。
