超快速、高精度空间原子层沉积镀膜

Beneq C2R 是我们集群兼容设备系列的空间 ALD 成员。

Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。

Beneq C2R 为光学镀膜和阻隔层等工业应用中的高性能原子层沉积 （ALD） 提供最佳解决方案。

当速度、成本、低工艺温度和尽可能高的薄膜质量是驱动因素时，Beneq C2R 是理想的产品。

技术亮点

• 超高沉积速率，高达每小时几微米

• 批量 PEALD 工艺，适用于多达 7 个 200 mm 晶圆

• 适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板

• 膜厚均匀性高，适用于要求苛刻的光学镀膜应用

• 可配备负载锁或晶圆自动化。

自动化选项

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。自动化服务包括：

• Brooks MX400 基于集群的模块

• 双臂扫地机器人

• 样品对准器

• 可选预热和冷却