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捷尼赛思 原子层沉积
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- 捷尼赛思
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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
材料选择
多种 ALD 材料可供选择，可满足您的要求。 多年来，Beneq 一直是用于研发和工业生产的卷对卷原子层沉积系统的先驱。我们的常用材料包括 Al₂O₃、TiO₂、ZnO、ZnS、SiO₂ 或可根据要求提供的任何其他材料。
功能亮点
卷筒纸宽度：最大420mm
ALD镀膜厚度：最大100nm
动态沉积速率 （Al2O3）： 10 nm *m/min
过程温度：最高 250°C
定制
在最大420mm的卷筒纸宽度下，Genesis ALD适用于实验室研发或中试规模生产。 设计用于将 ALD 薄膜处理到聚合物或金属等柔性基材上。通过与我们的合作伙伴 E+R Group（卷对卷真空镀膜机公司）合作，我们为客户提供更宽的卷筒纸和生产线集成的可选设计。
市场和应用
用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。
各种类型锂离子和固态电池的阴极和阳极的钝化
用于柔性太阳能电池的导电层和封装
用于柔性电子产品的防潮层
