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Beneq C2R--空间原子层沉积ALD
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致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
详细信息
1.产品概述：
Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 （PEALD） 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。
2.产品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。
自动化服务包括：
Brooks MX400 基于集群的模块
双臂扫地机器人
样品对准器
可选预热和冷却
3.产品优势：
超高沉积速率，高达每小时几微米
批量 PEALD 工艺，适用于多达 7 个 200 mm 晶圆
适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板
膜厚均匀性高，适用于要求苛刻的光学镀膜应用
可配备负载锁或晶圆自动化
