高速版无掩膜光刻机（Speed系列）是一款针对小批量生产制造需求而设计的光刻设备。

特征尺寸1μm：Speed系列无掩膜光刻机具备1μm的高精度特征尺寸，满足了高精度图案加工的需求，适用于各类精细电子元器件的生产。

8英寸光刻面积：设备支持8英寸（200mm）的光刻面积，适用于多种尺寸的晶圆和基板，具有较高的通用性。

高速扫描光刻：采用高速空间光调制器和高功率紫外激光器，实现高速扫描光刻，大幅提高生产效率。

无掩膜光刻技术：摒弃传统掩膜版，直接通过计算机生成的光束进行光刻，节省了掩膜版制作时间和成本，提高了生产灵活性。

高效生产：Speed系列无掩膜光刻机具备高速光刻能力，适用于小批量、多品种的生产模式，大大缩短了生产周期，提高了生产效率。

灵活性强：无掩膜光刻技术使得设备能够快速更换产品图案，满足多样化生产需求，降低了生产成本。

节省成本：无需制作掩膜版，降低了生产过程中的材料成本和设备投资。

易于操作：Speed系列无掩膜光刻机采用人性化的操作界面，简化了操作流程，降低了操作难度。

环保节能：高速光刻技术减少了能耗，无掩膜光刻技术降低了废弃物产生，符合绿色环保的生产理念。

广泛应用：Speed系列无掩膜光刻机适用于半导体、MEMS、生物芯片、光学器件等领域，为相关产业提供了高效、高质量的生产解决方案。

高速版无掩膜光刻机以其性能特点，为小批量生产制造提供了高效、灵活、低成本的优质选择，满足了市场对高效率、高质量生产的需求。