GAIA3 是一款可以挑战纳米设计应用的理想平台，它同时具备高精度及微量分析能力。GAIA3 适用于高质量超薄 TEM 样品制备、在技术节点减少流程、精确的纳米构图或高分辨率的三维重构。
 

这些特征使得 GAIA3 成为低能电子束成像应用的理想工具，保留易受电子束损坏的样品的精细结构，如低介电常数材料、光阻材料及未涂覆生物样品。在样品改性方面，GAIA3 也代表了挑战纳米加工的适合解决方案。

突出特点

Triglav™ - 新型超高分辨率 ( UHR ) 电子光学镜筒

• TriLens™ 物镜系统：*的电子束无交叉模式与超高分辨率物镜相结合
• 具有多个 SE 及 BSE 探测器的*探测系统
  • TriSE™ + TriBE™
• Triglav™ - 低加速电压下的超高分辨率: 1 nm (1 kV ),0.7 nm (15 kV )
• EquiPower™ 进一步提高电子束的稳定性
• 电子束流高达 400 nA，并能实现电子束能量的快速改变
• 优化的镜筒几何设计大可容纳8”晶圆

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