等离子刻蚀系统RIE

SENTECH SI 591等离子刻蚀系统RIE

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-04 17:31:13
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深圳市矢量科学仪器有限公司

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产品简介

SENTECH SI 591 紧凑型 RIE 等离子蚀刻系统具有负载锁定功能,是氯基和氟基 RIE 的紧凑型解决方案。

详细介绍

1. 产品概述:

SENTECH SI 591 紧凑型 RIE 等离子蚀刻系统具有负载锁定功能,是氯基和氟基 RIE 的紧凑型解决方案。具有出色的工艺可重复性和等离子蚀刻工艺灵活性,这得益于真空负载锁定和由计算机控制的等离子体蚀刻工艺条件。灵活性、模块化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的设计特点。可以装载直径达 200 mm 的样品和载体。该系统可以配置为穿墙操作或具有多种选项的小占地面积。

2. 主要功能与优势:

流程灵活性

SENTECH SI 591 紧凑型 RIE 等离子蚀刻系统有助于大量基于氯和氟的等离子体蚀刻工艺。

占地面积小,模块化程度高

该系统可以配置为单个反应器,也可以配置为具有盒到盒装载的集群工具。单反应器的配置是在系统上方有一个负载锁,以小化占地面积,或者有一个负载锁,用于穿墙安装。

3. SENTECH控制软件

SENTECH 等离子蚀刻工具包括用户友好的强大软件,带有 GUI、参数窗口、配方编辑器、数据记录和用户管理。

等离子蚀刻系统具有负载锁定功能,是氯基和氟基 RIE 的紧凑型解决方案。具有出色的工艺可重复性和等离子蚀刻工艺灵活性,这得益于真空负载锁定和由计算机控制的等离子体蚀刻工艺条件。灵活性、模块化和小尺寸是 SENTECH SI 591 compact 的设计特点。可以装载直径达 200 mm 的样品和载体。该系统可以配置为穿墙操作或具有多种选项的小占地面积。

 



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